에스앤에스텍 - 주가 전망 및 실적 분석 (2022년 3분기)

당사는 반도체 및 디스플레이 제조 공정에 적용되는 핵심 부품을 전문으로 생산하는 기업으로서 국내에서 유일하게 포토마스크의 원재료인 블랭크 마스크의 제조 및 공급을 하고 있습니다. 또한 종속회사 에스앤에스인베스트먼트(주)를 통해 신성장 동력의 확보 및 시너지 창출을 위한 투자 사업을 영위하고 있으며, 지난 2월에는 (주)에스앤에스랩을 설립하면서 바이오 및 과학 기술 관련 서비스업(공유 오피스 및 실험실 공간 제공 등)을 추가하였습니다. 지난 3분기 전사 실적에서 수출은 310억 원으로 34%, 내수는 603억 원으로 66%의 매출 비중을 기록했습니다.

손익계산서 - 실적

지난해 3분기 매출액은 316억 원으로 전년 동기 대비 31.7% 증가했고, 누적 매출액은 913억 원으로 28.1% 증가했습니다. 영업이익은 3분기에는 49억 원으로 132% 증가했으며, 누적 기준으로는 119억 원으로 49.8% 증가한 실적을 달성했습니다. 반도체 핵심 공정인 포토 공정에 사용되는 포토마스크를 만들기 전의 마스크를 공급하기 때문에 반도체, 디스플레이 전방 고객사의 꾸준한 수요를 통한 실적 성장을 시현하고 있습니다.

현금흐름표

지난 3분기 영업활동 현금흐름에서는 196억 원의 현금이 유입되었으며, 투자활동에서는 유무형 자산 및 금융상품의 취득 등으로 267억 원이 유출되었습니다. 재무활동에서는 당기 부채를 상환하고 배당금의 지급으로 유출이 있었으며, 단기 차입금의 차입을 통해 24억 원이 유입되었습니다. 2022년 3분기 말 기준 당사가 확보하고 있는 현금은 475억 원으로 전년 동기 대비 24% 감소했습니다.

재무제표, 재무 안정성 비율

2022년 3분기 총자산은 전기보다 10.1%(199억) 증가한 2,173억 원으로 유형자산, 관계기업 투자자산 및 금융상품의 증가에 기인합니다. 부채총계는 35.9%(83억) 늘어난 313억 원으로 단기차입금의 증가에 따릅니다. 자본에서는 당기순이익의 발생으로 6.7%(116억) 증가한 1,861억 원을 기록했습니다.

당사의 재무 건전성에서는 유동비율 397.7%, 부채비율 16.8%, 자기자본비율 85.6%, 자본유보율 1,652.3%를 기록하면서 안정적인 재무상태를 유지하고 있습니다.

최근 사업 및 연구 개발 현황

설비 투자 현황

당사는 지난해부터 EUV(극자외선) 공정용 블랭크 마스크 및 EUV 펠리클의 개발 완료에 이은 양산을 위한 투자를 수행 중에 있습니다. EUV 블랭크마스크의 양산과 신규 제품 개발에는 약 289억 원, EUV 펠리클의 양산에는 200억 원 규모의 투자를 하고 있습니다. 특히 EUV 펠리클의 경우 2022년 12월 말까지 1차 양산을 위한 투자를 마무리하고, 2024년까지 2차 양산 시설을 구축할 예정에 있습니다.

연구 개발 현황

당사는 지난 3분기까지 매출액의 8.2%인 75억 원을 투자하면서 EUV 공정용 블랭크 마스크, 펠리클의 성능 개선을 위한 연구 개발을 수행하고 있습니다.

에스앤에스텍(101490) - 주가 정보 및 주식 시세, 목표 주가

에스앤에스텍 - 주가 정보

1월 31일 장 종료 기준 당사의 주가는 전일보다 1.35% 오른 30,000원에 거래를 마감했습니다. 외국인 비중은 5.55%이며, 시가 총액 6,435억 원으로 87위 종목입니다.

에스앤에스텍 - 주식 시세

당사의 주가는 지난해 상반기 시장 불확실성의 확대와 전방산업의 투자 위축으로 하락세를 맞았으나, 하반기에 호실적 및 최근 EUV 펠리클의 양산이 기대되면서 꾸준한 상승세를 이어오고 있습니다. 최근 한 달간 수급에서는 기관의 꾸준한 매수 유입으로 상승세를 이끌고 있으며, 개인과 외국인은 매도 우위를 유지하고 있습니다. 특히 EUV 펠리클의 양산이 임박한 것으로 전해지면서 당분간 변동서 장세 속에서도 상승세는 유지될 것으로 보고 있습니다. 투자 포인트 및 차트 소견을 종합한 개인적인 목표주가는 35,000원으로 설정하였습니다.

투자 포인트

1. EUV 핵심소재(블랭크 마스크, 펠리클) 2023년 본격 양산 전망에 따른 중장기 성장동력 확보

2. 국내 유일의 반도체 및 디스플레이 포토마스크용 블랭크 마스크 국산화 및 공급 기업

3. 반도체 미세화, 고단화 추세에 따른 전방산업의 EUV 공정 확대에 대한 수혜

4. EUV용 차세대 블랭크 마스크(투과율 94%) 개발 추진

5. 삼성전자가 가장 많이 투자(658억 원)한 협력 업체

최근 주요 이슈, 공시 및 증권사 리포트

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